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全自动晶圆减薄机兼容4/6/8/12/寸晶圆,TTV≤1um-高精密晶圆减薄机,CMP抛光机,平面_双面_镜面_研磨机,抛光机-麻豆免费视频网站入口在线观看研磨厂家直销


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    全自动晶圆减薄机

    主要用途:

    本设备主要用于研磨Si、Ge、GaAs、InP、SiC、GaN、ZnO、LiTaO3、石英玻璃、金刚石等半导体材料

    设备特点:

    1、该系列设备是我司自主设计制造的全自动晶圆研磨机,技术成熟,性能稳定,可完全替代进口品牌。

    2、先进的处理系统和设计特点有助于实现高产量高良率。

    3、标配接觸式在線测厚。也可选配非接觸式NCG(非接触)。

    4、采用LCD触摸屏图形用户界面,使操作和维护更加直观和简单。

    5、突破核心技术封锁,自研大功率静压气浮主轴,承载平台。

    6、采用大理石基座,大理石气浮转台,极大提高了设备的整体稳定性。

    7、可研磨3至12英寸的各种晶圆。

    产品详情

    主要技术参数:

    型号

    200A

    300A

    晶圆尺寸

    4",6",8"

    8",12"

    研磨方式

    In-feed grinding with wafer Rotation

    In-feed grinding with wafer Rotation

    研磨轮

    钻石轮

    钻石轮

    额定功率

    7.5kw

    11KW

    额定转速

    1000-7000

    1000-4000

    TTV

    ≤2um

    ≤3um

    表面粗糙度

    可根据客户要求调整

    可根据客户要求调整

    厚度测量精度

    1um

    1um

    外形尺寸(WxDxH)

    2500x4500x1800mm

    2500x4500x1800mm

    总重量

    大约4000kg

    大约5000kg

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    联系人:陈小姐
    电话:13316558546
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